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真空烧结炉

产品简介

真空烧结炉是用石墨或金属钨、钼作发热元件的真空电阻炉,温度范围30-2300℃,供金属化合物、陶瓷、无机化合物等在真空或保护气氛中烧结制品,也可用于金属材料的热处理。主要应用于电容、钽材等金属及由难熔金属组成的合金材料、陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高温烧结、也可以供金属材料在高真空条件下的高温热处理或贵金属材料的除气处理。

产品型号:
更新时间:2024-04-11
厂商性质:生产厂家
访问量:6478
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一、产品应用

  真空烧结炉是用石墨或金属钨、钼作发热元件的真空电阻炉,温度范围30-2300℃,供金属化合物、陶瓷、无机化合物等在真空或保护气氛中烧结制品,也可用于金属材料的热处理。主要应用于电容、钽材等金属及由难熔金属组成的合金材料、陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高温烧结、也可以供金属材料在高真空条件下的高温热处理或贵金属材料的除气处理。
二、产品特点 
  设备结构合理,设计及制造符合相应的国家及行业标准和规范,使用、操作、维修方便简捷,配套产品和元器件具有先进水平,可稳定、安全、可靠地满足生产需求。

1、炉体密封性能良好,可通多种不同气体(氮气、氩气、氢气等);

2、采用进口石墨碳毡,比传统电炉节能30%;

3、高温金属(钼、钨)/石墨材料加热系统选择,方便不同温度或材料工艺需求;

4、按钮机械寿命不低于20万次(1200次/小时);

5、升温速度快 高达20℃/min;

6、气管采用快接插头,拆卸方便;

7、标配扩散泵机组,真空度 8×10-3Pa ;

8、标配智能控制系统,采用高分辨率触摸屏和温度控制模块,对工艺温度曲线进行全程监控、操作,记录、存储;

9、可配有液压叉车装取料系统;

三、技术参数 

   金属加热

型号

VVSw-6/6-2000(V1)

VVSw-10/12-2000 (V2)

VVSw-20/25-2000(V3)

设计温度(℃)

2000

2000

2000

控温精度(℃)

±1

±1

±1

温度均匀(℃)

±5

±5

±5

①真空度范围(选配)

低真空/高真空

低真空/高真空

低真空/高真空

②充气体种类(选配)

氮气/氩气/氢气

氮气/氩气/氢气

氮气/氩气/氢气

③冷却系统(选配)

HCA-6

HCA-8

HCA-10

炉膛尺寸(宽X高X长)(mm)

Φ60×60

Φ100×120

Φ200×250

额定电压(V)

380/二相

380/二相

380/三相

额定功率(KVA)

20

30

60

加热方式

钨加热

钨加热

钨加热

装卸料方式

立式下装料

立式下装料

立式下装料

备注:①低真空为10-1Pa;高真空为10-4Pa;②充气种类须气体;③冷水机型号及制冷量

 

石墨加热

 

型号

VVSgr-6/6-2000(V1)

VVSgr-10/12-2000 (V2)

VVSgr-20/25-2000(V3)

设计温度(℃)

2000

2000

2000

控温精度(℃)

±1

±1

±1

温度均匀(℃)

±5

±5

±5

①真空度范围(选配)

低真空/高真空

低真空/高真空

低真空/高真空

②充气体种类(选配)

氮气/氩气/氢气

氮气/氩气/氢气

氮气/氩气/氢气

 

 

 

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