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产品简介
该箱式气氛炉以硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，双层壳体间配有风冷系统，能快速升降温。采用外壳整体密封、盖板和炉门密封采用高温硅胶板、炉门口安装有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进入，并有多处洗膛进气口，可以通氩气、氮气等惰性气体，并能预抽真空，该设备具有温场均衡、表面温度低、升降温速率快、节能等优点；
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一、设备用途
该箱式气氛炉以硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，双层壳体间配有风冷系统，能快速升降温。采用外壳整体密封、盖板和炉门密封采用高温硅胶板、炉门口安装有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进入，并有多处洗膛进气口，可以通氩气、氮气等惰性气体，并能预抽真空，该设备具有温场均衡、表面温度低、升降温速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。
二、技术参数
品名 | 工作区尺寸(宽×高×长 mm) | 产品编号 | 容积 | 升温速率 | 降温速率 | 真空度 | 可通气体 | 加热元件 |
三代气氛炉
| 100*100*100 |
| 1L | ≤10℃/min | 700℃以上≤10℃/min | -0.1MPa | N2/O2/Ar/H2 | 硅钼棒 |
150*150*150 | A1-17 | 3.4L | ≤10℃/min | 700℃以上≤10℃/min | -0.1MPa | N2/O2/Ar/H2 | 硅钼棒 | |
150*150*200 |
| 4.5L | ≤10℃/min | 700℃以上≤10℃/min | -0.1MPa | N2/O2/Ar/H2 | 硅钼棒 | |
200*200*300 | A2-17 | 12L | ≤10℃/min | 700℃以上≤10℃/min | -0.1MPa | N2/O2/Ar/H2 | 硅钼棒 | |
300*300*300 | A3-17 | 27L | ≤10℃/min | 700℃以上≤10℃/min | -0.1MPa | N2/O2/Ar/H2 | 硅钼棒 | |
300*300*400 | A4-17 | 36L | ≤10℃/min | 700℃以上≤10℃/min | -0.1MPa | N2/O2/Ar/H2 | 硅钼棒 |
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