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当前位置:首页产品中心V系列-真空炉可控气氛炉1700℃箱式可控气氛炉(三代)

1700℃箱式可控气氛炉(三代)

产品简介

该箱式气氛炉以硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,双层壳体间配有风冷系统,能快速升降温。采用外壳整体密封、盖板和炉门密封采用高温硅胶板、炉门口安装有水冷系统,气体经过流量计后由后膛进入,并有多处洗膛进气口,可以通氩气、氮气等惰性气体,并能预抽真空,该设备具有温场均衡、表面温度低、升降温速率快、节能等优点;

产品型号:
更新时间:2024-05-17
厂商性质:生产厂家
访问量:3246
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一、设备用途

  该箱式气氛炉以硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,双层壳体间配有风冷系统,能快速升降温。采用外壳整体密封、盖板和炉门密封采用高温硅胶板、炉门口安装有水冷系统,气体经过流量计后由后膛进入,并有多处洗膛进气口,可以通氩气、氮气等惰性气体,并能预抽真空,该设备具有温场均衡、表面温度低、升降温速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品

二、技术参数

品名

 工作区尺寸(×高×长 mm)

产品编号

 容积 

 升温速率

 降温速率 

 真空度

 可通气体

 加热元件

 

三代气氛炉 

 

100*100*100 

 

 1L 

≤10℃/min

 700℃以上≤10℃/min

-0.1MPa 

 N2/O2/Ar/H2 

  硅钼棒 

150*150*150 

A1-17

 3.4L 

≤10/min 

700℃以上≤10/min 

-0.1MPa 

 N2/O2/Ar/H2 

  硅钼棒 

150*150*200 

 

4.5L

≤10℃/min

700℃以上≤10/min 

-0.1MPa 

N2/O2/Ar/H2 

  硅钼棒 

200*200*300 

A2-17

 12L 

≤10/min 

 700℃以上≤10/min 

-0.1MPa 

N2/O2/Ar/H2 

 硅钼棒 

300*300*300 

A3-17

 27L 

≤10℃/min 

 700℃以上≤10/min  

-0.1MPa 

 N2/O2/Ar/H2  

 硅钼棒 

300*300*400

A4-17

 36L 

≤10℃/min

700℃以上≤10/min 

-0.1MPa

N2/O2/Ar/H2

 硅钼棒

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