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真空箱式气氛炉厂家(三代)

产品简介

该箱式气氛炉以硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,双层壳体间配有风冷系统,能快速升降温。采用外壳整体密封、盖板和炉门密封采用高温硅胶板、炉门口安装有水冷系统,气体经过流量计后由后膛进入,并有多处洗膛进气口,可以通氩气、氮气等惰性气体,并能预抽真空,该设备具有温场均衡、表面温度低、升降温速率快、节能等优点;

产品型号:
更新时间:2024-05-17
厂商性质:生产厂家
访问量:3120
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一、设备用途

 该箱式气氛炉以硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,双层壳体间配有风冷系统,能快速升降温。采用外壳整体密封、盖板和炉门密封采用高温硅胶板、炉门口安装有水冷系统,气体经过流量计后由后膛进入,并有多处洗膛进气口,可以通氩气、氮气等惰性气体,并能预抽真空,该设备具有温场均衡、表面温度低、升降温速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品

二、技术参数

 

品名

工作区尺寸(××长 mm)

产品编号

容积

升温速率

降温速率

真空度

可通气体

加热元件

三代气氛炉

100*100*100

1L

≤10℃/min

700℃以上≤10℃/min

-0.1MPa

N2/O2/Ar/H2

硅钼棒

150*150*150

A1-17

3.4L

≤10℃/min

700℃以上≤10/min

-0.1MPa

N2/O2/Ar/H2

硅钼棒

150*150*200

4.5L

≤10℃/min

700℃以上≤10/min

-0.1MPa

N2/O2/Ar/H2

硅钼棒

200*200*300

A2-17

12L

≤10℃/min

700℃以上≤10/min

-0.1MPa

N2/O2/Ar/H2

硅钼棒

300*300*300

A3-17

27L

≤10℃/min

700℃以上≤10/min

-0.1MPa

N2/O2/Ar/H2

硅钼棒

300*300*400

A4-17

36L

10/min

700以上≤10/min

-0.1MPa

N2/O2/Ar/H2

硅钼棒

 

 

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