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这款CVD系统集真空管式炉,多通道气路系统和真空系统组成,可根据用户需要设计生产(有双温区、三温区、多温区),可预抽真空(有高真空、低真空),通多种气氛(供气系统有质子流量器和浮子流量控制器)。性能可靠。控制电路选用模糊PID程控技术,具有控温精度高,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作等特点。
PECVD系统是一种基于等离子体化学气相沉积技术的薄膜沉积设备,能够对各种材料进行薄膜沉积,包括金属、半导体、绝缘体等。PECVD技术在微电子、光电、平板显示、储能等领域具有重要的应用价值。