1700℃真空管式气氛炉

产品简介

真空管式气氛炉集成加热系统、混气系统、真空系统、循环水冷却系统，外形美观大方，结构设计先进合理，真空管式气氛炉采用双层壳体结构和智能化程序控温系统，炉膛采用进口氧化铝多晶体纤维材料，保温节能。

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更新时间：2024-04-11

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C系列气相沉积炉

P系列真空热压炉中温管式炉高温管式炉多温区管式炉滑轨式管式炉立式管式炉 CVD/PECVD系统旋转式管式炉

真空管式气氛炉的温度范围和温度控制方法有哪些？

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一、真空管式气氛炉设备用途

真空管式气氛炉集成加热系统、混气系统、真空系统、循环水冷却系统，外形美观大方，结构设计先进合理，真空管式气氛炉采用双层壳体结构和智能化程序控温系统，炉膛采用进口氧化铝多晶体纤维材料，保温节能。

　　冷却系统是真空管式气氛炉的重要组成部分。为避免水温升高造成停机，所以在使用的时候冷却水路应保持畅透。这是真空管式气氛炉工作时常披忽视的问题。如果没有人看管可能会导致气氛炉的重大毁坏。

　　在系统工作稳定后，至少应每月一次进行水质试验以防过处理或欠过理。真空管式气氛炉外壳和热交换器材料的试验样品也应放在水路系统中，每年做一次重量损失检验以检查处理的效果。对扩散泵的蛇形管冷却器必须特别注意。应该经常检查。如果堵塞了，扩散泵将会过热并丧失功能，而且还进一步引起扩散泵加热器烧毁，造成昂贵的、费时的修理。当蛇形冷却水管堵塞时，将水路同水源断开，排水并用压缩空气吹通或用稀醋酸溶液冲洗。

真空管式气氛炉

二、真空管式气氛炉产品特点

1、炉膛材料采用进口陶瓷纤维，呈现温场均衡、表面温度低、升温速率快、节能等优点；

2、电热元件采用优质加热体，表面负荷高，发热速度快；

3、炉体两端采用铰链结构的不锈钢密封法兰，方便操作、耐高温、耐腐蚀；

4、保护管采用高纯刚玉管；

5、加热区长度达300mm,温场更均匀；

6、密封性好，配合扩散泵或分子泵，炉子真空度可达10-3pa；

三、真空管式气氛炉技术参数：

品名	加热区尺寸mm	规格型号	真空度	恒温区长度mm	炉管尺寸mm	可通气体	加热元件
管式炉	40*300	HTF1700-4/30	-0.1mpa	120	φ40*1000	氮气/氧气/氩气/氢气	硅钼棒
	60*300	HTF1700-6/30	-0.1mpa	120	φ60*1000	氮气/氧气/氩气/氢气	硅钼棒
	80*300	HTF1700-8/30	-0.1mpa	120	φ80*1000	氮气/氧气/氩气/氢气	硅钼棒
	100*300	HTF1700-10/30	-0.1mpa	120	φ100*1000	氮气/氧气/氩气/氢气	硅钼棒
	60*450	HTF1700-6/45	-0.1mpa	200	φ60*1200	氮气/氧气/氩气/氢气	硅钼棒
	80*450	HTF1700-8/45	-0.1mpa	200	φ80*1200	氮气/氧气/氩气/氢气	硅钼棒
	100*450	HTF1700-10/45	-0.1mpa	200	φ100*1200	氮气/氧气/氩气/氢气	硅钼棒

四、真空管式气氛炉结构作用说明

　　1.炉体采用双层炉壳结构，双层炉壳之间装有风机，可以快速升降温，炉壳表面温度低。

　　2.炉管采用99高纯刚玉管、两端采用SUS304高真空法兰密封。

　　3.炉膛材料采用的进口氧化铝多晶纤维真空吸附制成，节能50%，加热炉膛为一体化，方便取放实验物料、更换炉管。加热元件采用硅钼棒。

　　4.电炉温度控制系统采用人工智能调节技术，具有PID调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序等功能，该控制系统温度显示精度为±1℃，温场稳定度±5℃，升温速率1~20℃可任意设置。

　　5.真空管式气氛炉真空度可以达到10Pa

　　真空管式气氛炉是一种常用的高温、高压、高真空下进行材料加工、改性、烧结等处理的设备。它在许多领域如材料科学、能源材料、电子材料、航空材料、高温合金等方面都有着广泛的应用。

　　1. 烧结材料

　　真空管式气氛炉可以实现高温烧结、特殊气氛烧结和多级烧结等操作，一般用于制备各种粉末冶金制品，包括陶瓷、金属、陶瓷/金属基复合材料等。这些材料通常难以通过常规烧结技术实现高度致密的结构和微结构。

　　由于真空管式气氛炉可以达到高真空、惰性气氛、活性气体等多种环境，可以控制各种呈反应状态的粉末材料的固相反应、液相反应等反应进行热处理。此外，真空管式气氛炉的特殊设计还可以实现均匀的温度场和压力场的控制，从而有效控制了制品中材料的化学成分和晶粒尺寸的变化，同时还可以避免产生孔隙和裂纹等缺陷。

　　2. 高温化学反应

　　真空管式气氛炉还可以用于高温下的化学反应，包括热解、氧化、还原、合成等。例如，可以使用真空上热源进行高温热解，从而在特定反应温度下将液态或高分子物质转化为固态材料，制备出优质陶瓷膜、纳米材料、金属氢化物、有机/无机复合材料等。同时，还可以使用真空管式气氛炉进行合成反应，贡献出新型材料和功能材料，例如铁电、压电、磁性材料等。

　　3. 金属加工

　　真空管式气氛炉还可以用于金属加工领域。金属在高温、高压、高真空环境下可以实现特殊加工。例如：真空管式气氛炉可以实现热处理金属材料，改变金属微观结构、调整金属性能；根据物理、化学等反应原理，可以对金属进行表面涂层处理，从而提高材料的耐热性、耐腐蚀性和抗磨损性等。

　　此外，真空管式气氛炉还可以用于静态拉伸试验、模拟熔融条件下的高温加工、焊接等。这些应用都希望能够达到高度稳定的温度场和压力场条件，从而确保生产出高品质的铸造件或其他形式的金属材料。

　　4. 半导体材料

　　真空管式气氛炉也是半导体材料加工过程中的重要工具。半导体材料的性能取决于晶体的生长过程。高温真空管式气氛炉可以通过高度准确定义的温度场和压力场对半导体材料进行高品质的晶体生长。例如，用于镓化合物发光二极管的常用半导体材料如InGaN、AlGaN，可以通过高压氮气反应器实现高质量的晶体生长。在一定的反应条件下，通过调整真空管式气氛炉高效控制生成物中的物质量，来合成各种混合半导体。

　　5. 陶瓷材料改性

　　真空管式气氛炉还可以实现陶瓷材料的改性，即通过特殊的处理，改变其结构和性能。陶瓷材料不仅用于传统的沙瓷、瓷瓶、瓷碗等物件，还用于先进的磁性、电学、热学等电子元器件，包括陶瓷电容器、热敏电阻器、压敏电阻器、石英陶瓷等。这些材料在应用过程中，常常需要通过改性来改善其性能。

　　例如，使用真空管式气氛炉进行气氛烧结处理，通过氧分压、气氛组成、温度等参数的调节，可以控制结晶粒度、孔隙率和微观结构等，从而实现改变材料的物理和化学性质，提高材料的致密性、硬度、强度、抗压、耐磨和耐腐蚀能力。

　　总之，随着科学技术的发展，真空管式气氛炉在许多领域都有着广泛的应用，成为实现材料加工、改性、烧结的重要手段之一。

上一个：管式电炉