技术文章
TECHNICAL ARTICLES气氛压力烧结炉的主要参数一般为2000℃和10MPa压力以下,由于其压力较低导致设备结构形式与HIP相比差异较大,成本较低,因而在局部领域获得了广泛的应用,主要应用于硬质合金、高比重合金、氮化硅、氧化铝、氮化硼、碳碳复合材料等多种高新技术材料领域。该设备可作常压(或真空)烧结、气氛压力烧结和反应烧结。
气氛压力烧结炉按照安装方式可分为立式和和卧式,按照大小可分为实验室型、工程型,能够根据用户特定需求进行专门设计制造。气氛压力烧结炉主要由主机系统、液压系统、真空压力系统、冷却系统、加热系统、电气系统等构成。
产品规格:立式:热区直径Φ100~1000mm,热区高度150~1500mm,压力10MPa。
卧式:截面尺寸□300~800mm,热区长度600~2500mm,压力10MPa。
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