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    2021-11

    气氛烧结炉为石墨加热、周期作业式,采用石墨管为发热元件,适用于金属材料、无机非金属材料在真空或保护气氛下进行烧结之用。也可用于光学材料的焙烧提纯之用。1、窑炉内的还原气氛不同的燃烧气氛,会导致粘土中的铁氧化物变价,使制品烧成后会产生各种颜色...

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    2021-11

    压力烧结炉适用于氮化硅、硬质合金等材料在高压氮气气氛内进行烧结。有利于增加材料的烧结密度,提高材料的机械性能。烧结炉具有优良的组织结构、强度和密度。可以实现连续差压脱脂、真空烧结和加压烧结工艺;具有气氛调节功能,炉内气氛稳定,产品质量易于控...

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    2021-11

    CVD管式炉由管式炉+真空系统+供气系统组成,大温度可以达到1200度,可以是单温区、双温区、三温区等,真空可以达到10-3Pa,供气系统是流量调节可以是质子流量计或浮子流量计,混气路数可以是2路、3路、4路、5路相混合。CVD管式炉产品特...

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    2021-11

    PECVD系统就是为了使传统的化学气象沉积反应温度降低,普通CVD设备的沉积温度大多在900℃左右,而在普通CVD装置的前端加入RF射频感应装置将反应气体电离,形成等离子体,利用等离子体的活性来促进反应,可以使化学气相沉积的温度降到400℃...

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