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    2021-12

    气压烧结炉不像热压炉那样对产品形状有所限制。专门适用于那些在温度升高时容易分解或常规烧结方法不能得到高密度的陶瓷或金属材料。可用于氮化硅、硅铝氧氮陶瓷、碳化硅、高温合金,硬质合金及常规的复合材料。非常适用于各种陶瓷及金属材料的烧结工艺,尤其...

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    2021-12

    CVD技术主要使用的设备是化学气相沉积炉,该设备主要应用于各种CVD实验,也可用于真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。化学气相沉积是一种化工技术,该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬...

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    2021-12

    高温管式炉可开启式高温炉内胆轻质高温纤维材料制作,有两个半圆形炉体合成,开启方便,可分为立式卧式,可安装在炉架上,或根据需要将炉体安装在其他工作台面,炉体与控制器制成为一体化也可做为分体式。它具有多达32段升温程序功能,只需开通电源设置程序...

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    2021-12

    气氛管式炉又称气氛炉,由马弗炉演化而成。主要的目的是在高温烧结的情况通入某种特定气体用于特殊热处理,或者对热处理的样品进行保护防止氧化。市场上使用气氛保护多以防止氧化为主。根据炉膛的不同,可以分为管式气氛炉和箱式气氛炉。其中,管式气氛炉,根...

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