高温三温区管式气氛炉主要用于石墨、陶瓷、锂电池、稀有金属、稀土、生物材料等在气氛保护下进行烧结、镀膜、热处理、灰分测定等，也适用于石墨烯、碳纳米管、二硫化钼等二维材料的制备。

单温区管式炉可根据用户需要设计生产（有双温区、三温区、多温区），可预抽真空（有高真空、低真空），通多种气氛（供气系统有质子流量器和浮子流量控制器）。性能可靠。控制电路选用模糊PID程控技术，具有控温精度高，温冲幅度小，性能可靠，简单易操作等特点。

管式高温炉可根据用户需要设计生产（有双温区、三温区、多温区），可预抽真空（有高真空、低真空），通多种气氛（供气系统有质子流量器和浮子流量控制器）。性能可靠。控制电路选用模糊PID程控技术，具有控温精度高，温冲幅度小，性能可靠，简单易操作等特点。

CVD管式炉（Chemical Vapor Deposition Tubular Furnace）是一种将气相反应产生的化学物质沉积在加热基底上形成薄膜的装置。通常由炉体、加热系统、保护气体系统、反应气体系统、真空系统组成，它是一种广泛应用于材料制备领域的基础设施。

真空高温管式炉，多通道气路系统和真空系统组成，可根据用户需要设计生产（有双温区、三温区、多温区），可预抽真空（有高真空、低真空），通多种气氛（供气系统有质子流量器和浮子流量控制器）。性能可靠。控制电路选用模糊PID程控技术，具有控温精度高，温冲幅度小，性能可靠，简单易操作等特点。

1400℃双温区管式炉主要用于石墨、陶瓷、锂电池、稀有金属、稀土、生物材料等在气氛保护下进行烧结、镀膜、热处理、灰分测定等，也适用于石墨烯、碳纳米管、二硫化钼等二维材料的制备。