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  • 202112-15
    使用化学气相沉积炉做实验时有如下几个特点

    CVD技术主要使用的设备是化学气相沉积炉,该设备主要应用于各种CVD实验,也可用于真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。化学气相沉积是一种化工技术,该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物,也可以是III-...

  • 202112-10
    对高温管式炉进行调试的工作你清楚有哪些吗?

    高温管式炉可开启式高温炉内胆轻质高温纤维材料制作,有两个半圆形炉体合成,开启方便,可分为立式卧式,可安装在炉架上,或根据需要将炉体安装在其他工作台面,炉体与控制器制成为一体化也可做为分体式。它具有多达32段升温程序功能,只需开通电源设置程序,机器即自动工作,工作完毕自动关机;仪器操作方便,升温速度快,升温速度可调,外形轻巧。主要用途:广泛用于陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、高校、科研院所、工矿企业做粉末焙烧、陶瓷烧结、高温实验、材料处...

  • 20233-21
    了解气氛管式炉的安装步骤和操作方式

    气氛管式炉主要的目的是在高温烧结的情况通入某种特定气体用于特殊热处理,或者对热处理的样品进行保护防止氧化。市场上使用气氛保护多以防止氧化为主。根据炉膛的不同,可以分为管式气氛炉和箱式气氛炉。其中,管式气氛炉,根据温度不同,低温采用石英管高温采用刚玉管为炉管,两端配以法兰密封;箱式气氛炉,多为整体焊接箱体,内衬无机保温材料,独立炉门硅胶密封。气氛保护炉上通常都会有以下装置,进出气管道,阀门,压力显示装置,真空获得装置。操作方式:针对实验室的使用要求,装卸料采用间歇式手动装、卸料...

  • 202112-2
    真空管式炉的常见故障与处理方法

    真空管式炉如果长时间不使用或者用的年数多了,难免会出现一些故障,下面简单介绍一下真空炉常见的故障,与对应的处理方法。一、电器故障(一)温度异常,包括温度过高报警、或显示温度达不到设定值。(1)温度过高报警故障解除方法:1.首先检查所在工作区温控器参数是否正常,参考其他正常使用中的温控器校对所有参数。2.根据电路图检查相应工作区的固态继电器输出端是否被击穿,具本方法:停电后,用万用表电阻档测量固态继电器输出端两点之间的电阻,正常时,电阻会有几兆欧以上,如果被击穿,则几乎没有电阻...

  • 202111-29
    你知道气氛烧结炉内的两种气氛是哪两种吗?

    气氛烧结炉为石墨加热、周期作业式,采用石墨管为发热元件,适用于金属材料、无机非金属材料在真空或保护气氛下进行烧结之用。也可用于光学材料的焙烧提纯之用。1、窑炉内的还原气氛不同的燃烧气氛,会导致粘土中的铁氧化物变价,使制品烧成后会产生各种颜色的制品。使烧成后砖瓦呈现红色外观的内在因素是三氧化二铁;能决定外观颜色的还有另外一个因素,就是焙烧阶段的燃烧气氛在起作用。低温下的三氧化二铁呈稳定的棕红色。而在焙烧温度(比如1000℃)不变、三氧化二铁含量不变的情况下,高温下的三氧化二铁就...

  • 202111-24
    安装压力烧结炉时哪些事情是需要注意的?

    压力烧结炉适用于氮化硅、硬质合金等材料在高压氮气气氛内进行烧结。有利于增加材料的烧结密度,提高材料的机械性能。烧结炉具有优良的组织结构、强度和密度。可以实现连续差压脱脂、真空烧结和加压烧结工艺;具有气氛调节功能,炉内气氛稳定,产品质量易于控制;炉内分压控制,实现恒压烧结。为了保证粉末压坯在烧结过程中的脱蜡(润滑剂或成形剂)、还原、合金化、组织转变等顺利进行,烧结时需要对烧结温度、保护气氛、压坯传送方式、加热和冷却速度等进行控制。因此,烧结炉在结构上应满足以下要求:(1)具有完...

  • 202111-19
    这篇文章帮助你了解CVD管式炉的产品特点以及注意事项

    CVD管式炉由管式炉+真空系统+供气系统组成,大温度可以达到1200度,可以是单温区、双温区、三温区等,真空可以达到10-3Pa,供气系统是流量调节可以是质子流量计或浮子流量计,混气路数可以是2路、3路、4路、5路相混合。CVD管式炉产品特点:1、控制电路选用模糊PID程控技术,该技术控温精度高,热惯性小,温度不过冲,性能可靠,操作简单。2、气路快速连接法兰结构采用本公司知识产权设计,提高操作便捷性。3、中真空系统具有真空度上下限自动控制功能,高真空系统采用高压强,耐冲击分子...

  • 202111-15
    这些有关PECVD系统的特点,您知道几点?

    PECVD系统就是为了使传统的化学气象沉积反应温度降低,普通CVD设备的沉积温度大多在900℃左右,而在普通CVD装置的前端加入RF射频感应装置将反应气体电离,形成等离子体,利用等离子体的活性来促进反应,可以使化学气相沉积的温度降到400℃左右,所以这个系统称为增强型化学气相沉积系统。PECVD综合了国内大多数厂家的PECVD系统的优点,触摸屏集中一键控制,实验证明此结构沉积速度快,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂。而且控制部分采用了自主研发的实验电炉AIO全自动智能控制系统,...

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