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还不了解什么是PECVD系统?请看这里!
发布时间:2022-03-22 点击量:349
   什么是PECVD系统?它是化学气相沉积法,是一种化工技术,该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。它是一种PECVD(等离子体增强化学气相沉积)的管式炉系统,它由500W射频电源、带有200毫米直径石英管的可拆分管式炉、真空泵和三通道质量流量计气体流动系统组成。它可以混合1-3种气体用于CVD或扩散。
  
  化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物,也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素间化合物,而且它们的物理功能可以通过气相掺杂的淀积过程精确控制。化学气相淀积已成为无机合成化学的一个新领域,PCEVD是等离子体增强化学气相沉积英文的各个词字母的首字母。
  
  PECVD系统是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD)。
  
  注意事项:
  1、设备炉膛温度≥200℃时,禁止打开炉膛,避免受到伤害;
  2、设备使用时,炉管内压力不得超过0.02MPa(绝对压力),以防止压力过大造成设备损坏;
  3、当炉体温度高于1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压相当,保持在常压状态;
  4、在对样品加热时,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,绝对压力表读数不要大于0.02MPa,必须立刻打开排气端阀门,以防意外发生(如炉管破裂,法兰飞出等)。
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