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PRODUCTS CNTERCVD管式炉(Chemical Vapor Deposition Tubular Furnace)是一种将气相反应产生的化学物质沉积在加热基底上形成薄膜的装置。通常由炉体、加热系统、保护气体系统、反应气体系统、真空系统组成,它是一种广泛应用于材料制备领域的基础设施。
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一、CVD管式炉产品应用
CVD管式炉主要用于石墨、陶瓷、锂电池、稀有金属、稀土、生物材料等在气氛保护下进行烧结、镀膜、热处理、灰分测定等,也适用于石墨烯、碳纳米管、二硫化钼等二维材料的制备。
二、CVD管式炉产品特点
1、炉膛材料采用进口陶瓷纤维,呈现温场均衡、表面温度低、升温速率快、节能等优点;
2、电热元件采用进口高电阻合金丝,表面负荷高,发热速度快;
3、炉体两端采用铰链结构的不锈钢密封法兰,方便操作、耐高温、耐腐蚀;
4、保护管采用高纯石英管、耐温1150℃;
5、加热区长度达400mm,温场更均匀;
6、左右两端采用气动支撑杆,方便上炉体的开启;
7、密封性好,配合扩散泵或分子泵,炉子真空度可达10-3pa;
8、炉体采用双层空气隔热技术,配有自动冷却风扇,降低炉体外壳温度;
9、炉体整体安装四个万向轮,方便整体移动;
10、采用程序控温系统可编辑30段程序控温,控温精度±1℃,移相触发、可控硅控制;
三、CVD管式炉技术参数
1200℃(电阻丝)
品名 |
型号 |
炉管尺寸 |
加热区长度mm |
恒温区长度mm |
真空度 |
温区 |
可通气体 |
加热元件 |
双温区管式炉 |
HTF1200-6/40-II |
φ60*1000 |
400 |
200 |
-0.1MPa |
双温区 |
氮气/氧气/氩气 |
电阻丝 |
HTF1200-8/40-II |
φ80*1000 |
400 |
200 |
-0.1MPa |
双温区 |
氮气/氧气/氩气 |
电阻丝 | |
HTF1200-10/40-II |
φ100*1000 |
400 |
200 |
-0.1MPa |
双温区 |
氮气/氧气/氩气 |
电阻丝 |