涨知识！PECVD系统工艺干货分享

PECVD系统技术是在低气压下，利用低温等离子体在工艺腔体的阴极上（即样品放置的托盘）产生辉光放电，利用辉光放电（或另加发热体）使样品升温到预定的温度，然后通入适量的工艺气体，这些气体经一系列化学反应和等离子体反应，最终在样品表面形成固态薄膜。在反应过程中，反应气体从进气口进入炉腔，逐渐扩散至样品表面，在射频源激发的电场作用下，反应气体分解成电子、离子和活性基团等。这些分解物发生化学反应，生成形成膜的初始成分和副反应物，这些生成物以化学键的形式吸附到样品表面，生成固态膜的晶核...

连续式回转炉能够实现高密封精度的指标要求

连续式回转炉适用于无机盐粉体材料（如磷酸铁锂、碳酸锰、碳酸钡）、金属粉体等在氧化性（如空气）或还原性气氛（如氮氢混合气）下的焙烧反应，也适用于化工行业催化剂载体氧化性处理以及石墨烯、纳米材料、稀土等高新材料。回转窑的主要特点：在热处理即焙烧过程中，回转筒体有个小倾斜度，散装固体在窑中不断地从进料端移动到出料端。窑炉一般都是连续、自动运行的。它们可以直接运输散装固体，而不需要进一步的输送设备，这使得这些窑炉更加节能。由于回转窑焙烧工艺对散装固体或者粉体有着重要的机械影响，因此必...

气氛管式炉在操作时，以下几点得注意了

相信大多数人都知道，在工业上使用的气氛管式炉中，许多可控气体是可燃的，在特殊的条件下可能发生爆炸。这种爆炸可能损坏设备和威胁操作人员的人身安全。因此，在设备运行中，应对潜在的危险给予高度重视。在已发生的事件中，特别引人注意的是，必须按照操作规程进行操作。在可能发生危险之前，必须认真分析和研究安全操作规程。没有多少设备在任何危急的情况下都能安全地运行。既使能做到这一点，但为了提高生产率，技术熟练的操作者往往也不愿意在整个生产过程中使用所有的安全系统。下面我们一起去看看气氛管式炉...

浅析PECVD系统的工艺原理

PECVD系统主要由真空和压力控制系统、淀积系统、气体及流量控制、系统安全保护系统、计算机控制等部分组成。该技术是在低气压下，利用低温等离子体在工艺腔体的阴极上（即样品放置的托盘）产生辉光放电，利用辉光放电（或另加发热体）使样品升温到预定的温度，然后通入适量的工艺气体，这些气体经一系列化学反应和等离子体反应，最终在样品表面形成固态薄膜。工艺原理：在反应过程中，反应气体从进气口进入炉腔，逐渐扩散至样品表面，在射频源激发的电场作用下，反应气体分解成电子、离子和活性基团等。这些分解...

滑轨式管式炉淬火不充分引起变形

滑轨式管式炉是一体化结构设计，用于1100℃以下快速升温快速降温的特殊工艺要求，通过移动炉体实现快速冷却的目的。同时也可以预先设定温度，然后移动到样品处，达到快速升温的效果。适合用于广泛的RTP工艺及CVD石墨烯工艺。适用于要求升降温速度比较快的CVD实验。炉体采用MXG1200开启式管式炉，炉底安装有直线滑轨，当生长结束后，左右拉动炉体能够保证有足够的空间使实验样品移出炉体，实现快速降温的要求。性能特点：1、工作温度RT-1000℃；2、日本进口智能程序控温仪控制精准，可编...

压力烧结炉的主要功能和特点

压力烧结炉采用立式结构由炉体、炉升盖降机构、真空系统、充气系统，温控系统等组成。炉体采用双层水冷结构，内壁为16MnR压力容器专用钢，外层优质碳钢，中间通水冷却。炉内发热元件为石墨管，保温元件为碳毡及石墨复合结构。炉侧装有一观察孔、红外测温口、热电偶孔。热电偶选用钨铼型，同时具有高温时自动退出加热区的功能。适用于氮化硅陶瓷球，陶瓷刀具、LED粉体还原与烧结、硬质合金，粉末冶金烧结等材料在高压氮气或氩气气氛内进行烧结，有利于增加材料的烧结密度，提高材料的机械性能。烧结工艺应用：...

使用高温管式炉时，容易忽略的几个问题

高温管式炉主要运用于冶金，玻璃，热处理，锂电正负极材料，新能源，LED发光材料，磨具等行业测定材料在一定气氛条件下的专业设备。可选择单设定点或30段可编程控制器。节能型的陶瓷纤维材料和双层结构，可将外表温度降到常温。均温区长，操作简便，密封可靠，综合性能指标较高。炉管可选择配置耐热钢、石英玻璃、陶瓷管等材料。高温管式炉的结构简单，热效率高，又能连续生产，并且操作方便，因此在冶金，玻璃，热处理，新能源等的行业中有着广泛的应用，为了更好地使用，要注意使用规范，以下是根据相关工作人...

还不了解什么是PECVD系统？请看这里！

什么是PECVD系统？它是化学气相沉积法，是一种化工技术，该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。它是一种PECVD（等离子体增强化学气相沉积）的管式炉系统，它由500W射频电源、带有200毫米直径石英管的可拆分管式炉、真空泵和三通道质量流量计气体流动系统组成。它可以混合1-3种气体用于CVD或扩散。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物、氮...