管式炉的炉管清洗方法有以下两种

管式炉广泛用于耐火材料、电子、陶瓷、冶金、机器、建材、特种材料、新材料开发等领域的试验和生产中。在使用时，避免不了产生炉管结碳渣或者结焦等情况，通常的清洗方法有物理清洗法和化学清洗法2种：1、物理清洗采用机械力将管道内积存的碳渣击碎，再用高速气流将碎渣吹出，使管道畅通。化学清洗是通过化学反应破坏碳渣的结构或者与碳渣发生反应，达到清渣的目的。内部管道采用180°冲压弯头连接。如果采用物理清洗，一次清洗距离有限，需要在炉膛内部对炉管多处开门，逐段清洗后再逐段焊补，然后才能用高速气...

真空钎焊炉是一种真空炉的大型设备

真空钎焊炉主要由真空钎焊炉和真空系统两部分组成，在真空状态下，把一组焊接件加热到填充金属熔点温度以上，但低于基体金属熔点温度，借助于填充金属对基体金属的湿润和流动形成焊缝的一种焊接工艺（钎焊温度因材料不同而异）。工作原理：该炉能够进行真空钎焊、真空退火、真空时效等多种加工。可编多个不同程序，能控制和编入上百个热处理曲线点，分上、下、左右、前后六区控温，有多点和单点温度记录仪以及过温保护装置，炉温均匀性可控制在恒定温度范围以内，另配有高纯氮高流量强冷装置。该设备具有装炉量大、效...

1200℃管式炉采用高质量电炉丝作为加热元件

1200℃管式炉采用高质量电炉丝作为加热元件，加热温度可达1200℃，石英炉管管径为50mm。该款隔热屏真空热处理炉各项指标均达到了国际水平，可实现快速升温和降温，可实现无氧化、无脱碳、无渗碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脱脂除气等作用，从而达到表面光亮净化的效果。主要运用于冶金、玻璃、热处理、锂电正负极材料、新能源、磨具等行业，也可用于气氛环境下的热处理，也可用于组成CVD系统，进行相关的镀膜试验生产。1200℃管式炉产品特点：1、一体化设计，结构紧凑，外形美观，自带脚轮，移...

压力烧结炉是生产高性能硬质合金的关键设备

压力烧结炉结合了脱蜡、真空烧结和后续的热等静压致密化等工艺，用于硬质合金或工程陶瓷的处理，可在真空、反应气体和高至100巴的压力下工作。低孔隙度是高质量硬质合金的重要标志，气体压力烧结能有效消除硬质合金孔隙度，达到真空、氢气烧结炉无法达到的效果。随着经济的发展，硬质合金生产技术不断进步，压力烧结已经成为高质量硬质合金烧结的一种主导技术。在硬质合金生产工艺中，烧结是决定硬质合金结构与性能的关键工序。是生产高性能硬质合金的关键设备，经压力烧结的硬质合金制品，具有极优良的组织结构，...

涨知识！PECVD系统工艺干货分享

PECVD系统技术是在低气压下，利用低温等离子体在工艺腔体的阴极上（即样品放置的托盘）产生辉光放电，利用辉光放电（或另加发热体）使样品升温到预定的温度，然后通入适量的工艺气体，这些气体经一系列化学反应和等离子体反应，最终在样品表面形成固态薄膜。在反应过程中，反应气体从进气口进入炉腔，逐渐扩散至样品表面，在射频源激发的电场作用下，反应气体分解成电子、离子和活性基团等。这些分解物发生化学反应，生成形成膜的初始成分和副反应物，这些生成物以化学键的形式吸附到样品表面，生成固态膜的晶核...

连续式回转炉能够实现高密封精度的指标要求

连续式回转炉适用于无机盐粉体材料（如磷酸铁锂、碳酸锰、碳酸钡）、金属粉体等在氧化性（如空气）或还原性气氛（如氮氢混合气）下的焙烧反应，也适用于化工行业催化剂载体氧化性处理以及石墨烯、纳米材料、稀土等高新材料。回转窑的主要特点：在热处理即焙烧过程中，回转筒体有个小倾斜度，散装固体在窑中不断地从进料端移动到出料端。窑炉一般都是连续、自动运行的。它们可以直接运输散装固体，而不需要进一步的输送设备，这使得这些窑炉更加节能。由于回转窑焙烧工艺对散装固体或者粉体有着重要的机械影响，因此必...

气氛管式炉在操作时，以下几点得注意了

相信大多数人都知道，在工业上使用的气氛管式炉中，许多可控气体是可燃的，在特殊的条件下可能发生爆炸。这种爆炸可能损坏设备和威胁操作人员的人身安全。因此，在设备运行中，应对潜在的危险给予高度重视。在已发生的事件中，特别引人注意的是，必须按照操作规程进行操作。在可能发生危险之前，必须认真分析和研究安全操作规程。没有多少设备在任何危急的情况下都能安全地运行。既使能做到这一点，但为了提高生产率，技术熟练的操作者往往也不愿意在整个生产过程中使用所有的安全系统。下面我们一起去看看气氛管式炉...

浅析PECVD系统的工艺原理

PECVD系统主要由真空和压力控制系统、淀积系统、气体及流量控制、系统安全保护系统、计算机控制等部分组成。该技术是在低气压下，利用低温等离子体在工艺腔体的阴极上（即样品放置的托盘）产生辉光放电，利用辉光放电（或另加发热体）使样品升温到预定的温度，然后通入适量的工艺气体，这些气体经一系列化学反应和等离子体反应，最终在样品表面形成固态薄膜。工艺原理：在反应过程中，反应气体从进气口进入炉腔，逐渐扩散至样品表面，在射频源激发的电场作用下，反应气体分解成电子、离子和活性基团等。这些分解...