CVD管式炉炉体采用双层炉壳结构

 

    CVD管式炉主要用途陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、特种材料、建材、高校、科研院所、工矿企业做粉末焙烧、陶瓷烧结、高温实验、材料处理、高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等。

 

CVD管式炉详细介绍:

 

    1、CVD管式炉炉体采用双层炉壳结构，双层炉壳之间装有风机，可以快速升降温，炉壳表面温度低。

 

    2、炉管采用99高纯刚玉管、两端用不锈钢304高真空法兰密封。

 

    3、炉膛材料采用的进口氧化铝多晶纤维真空吸附制成，节能50%，加热元件采用硅钼棒。

 

    4、电炉温度控制系统采用人工智能调节技术，具有PID调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序等功能，该控制系统温度显示精度为1℃，温场稳定度±5℃，升温速率1~20℃可任意设置。

 

    5、真空度可以达到10Pa，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。