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CVD管式炉(Chemical Vapor Deposition Tubular Furnace)是一种将气相反应产生的化学物质沉积在加热基底上形成薄膜的装置。通常由炉体、加热系统、保护气体系统、反应气体系统、真空系统组成,它是一种广泛应用于材料制备领域的基础设施。
真空高温管式炉,多通道气路系统和真空系统组成,可根据用户需要设计生产(有双温区、三温区、多温区),可预抽真空(有高真空、低真空),通多种气氛(供气系统有质子流量器和浮子流量控制器)。性能可靠。控制电路选用模糊PID程控技术,具有控温精度高,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作等特点。
高温管式电阻炉厂家这款管式炉以优质硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构,厦门宇电30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用1700型氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,采用99刚玉管、两端用不锈钢法兰密封,用浮子流量计控制进气流量、该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、真空退火用的理想产品。
快速退火炉工作温度可达1200°C。炉底安装一对滑轨,可用手动滑动。加热和冷却速率可达100°C/m。为取得较好的加热,可以预先加热炉子到设定的温度,然后移动炉子到样品位置。为获得较好的冷却,可在样品加热后移动炉子到另一端。加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到10°C/s,是低成本快速热处理的理想炉子。
管式电阻炉厂家,多通道气路系统和真空系统组成,可根据用户需要设计生产(有双温区、三温区、多温区),可预抽真空(有高真空、低真空),通多种气氛(供气系统有质子流量器和浮子流量控制器)。性能可靠。控制电路选用模糊PID程控技术,具有控温精度高,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作等特点。CVD管式炉