技术文章
TECHNICAL ARTICLESCVD技术主要使用的设备是化学气相沉积炉,该设备主要应用于各种CVD实验,也可用于真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。化学气相沉积是一种化工技术,该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物,也可以是III-...
高温管式炉可开启式高温炉内胆轻质高温纤维材料制作,有两个半圆形炉体合成,开启方便,可分为立式卧式,可安装在炉架上,或根据需要将炉体安装在其他工作台面,炉体与控制器制成为一体化也可做为分体式。它具有多达32段升温程序功能,只需开通电源设置程序,机器即自动工作,工作完毕自动关机;仪器操作方便,升温速度快,升温速度可调,外形轻巧。主要用途:广泛用于陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、高校、科研院所、工矿企业做粉末焙烧、陶瓷烧结、高温实验、材料处...
真空管式炉如果长时间不使用或者用的年数多了,难免会出现一些故障,下面简单介绍一下真空炉常见的故障,与对应的处理方法。一、电器故障(一)温度异常,包括温度过高报警、或显示温度达不到设定值。(1)温度过高报警故障解除方法:1.首先检查所在工作区温控器参数是否正常,参考其他正常使用中的温控器校对所有参数。2.根据电路图检查相应工作区的固态继电器输出端是否被击穿,具本方法:停电后,用万用表电阻档测量固态继电器输出端两点之间的电阻,正常时,电阻会有几兆欧以上,如果被击穿,则几乎没有电阻...
气氛烧结炉为石墨加热、周期作业式,采用石墨管为发热元件,适用于金属材料、无机非金属材料在真空或保护气氛下进行烧结之用。也可用于光学材料的焙烧提纯之用。1、窑炉内的还原气氛不同的燃烧气氛,会导致粘土中的铁氧化物变价,使制品烧成后会产生各种颜色的制品。使烧成后砖瓦呈现红色外观的内在因素是三氧化二铁;能决定外观颜色的还有另外一个因素,就是焙烧阶段的燃烧气氛在起作用。低温下的三氧化二铁呈稳定的棕红色。而在焙烧温度(比如1000℃)不变、三氧化二铁含量不变的情况下,高温下的三氧化二铁就...
压力烧结炉适用于氮化硅、硬质合金等材料在高压氮气气氛内进行烧结。有利于增加材料的烧结密度,提高材料的机械性能。烧结炉具有优良的组织结构、强度和密度。可以实现连续差压脱脂、真空烧结和加压烧结工艺;具有气氛调节功能,炉内气氛稳定,产品质量易于控制;炉内分压控制,实现恒压烧结。为了保证粉末压坯在烧结过程中的脱蜡(润滑剂或成形剂)、还原、合金化、组织转变等顺利进行,烧结时需要对烧结温度、保护气氛、压坯传送方式、加热和冷却速度等进行控制。因此,烧结炉在结构上应满足以下要求:(1)具有完...
CVD管式炉由管式炉+真空系统+供气系统组成,大温度可以达到1200度,可以是单温区、双温区、三温区等,真空可以达到10-3Pa,供气系统是流量调节可以是质子流量计或浮子流量计,混气路数可以是2路、3路、4路、5路相混合。CVD管式炉产品特点:1、控制电路选用模糊PID程控技术,该技术控温精度高,热惯性小,温度不过冲,性能可靠,操作简单。2、气路快速连接法兰结构采用本公司知识产权设计,提高操作便捷性。3、中真空系统具有真空度上下限自动控制功能,高真空系统采用高压强,耐冲击分子...
PECVD系统就是为了使传统的化学气象沉积反应温度降低,普通CVD设备的沉积温度大多在900℃左右,而在普通CVD装置的前端加入RF射频感应装置将反应气体电离,形成等离子体,利用等离子体的活性来促进反应,可以使化学气相沉积的温度降到400℃左右,所以这个系统称为增强型化学气相沉积系统。PECVD综合了国内大多数厂家的PECVD系统的优点,触摸屏集中一键控制,实验证明此结构沉积速度快,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂。而且控制部分采用了自主研发的实验电炉AIO全自动智能控制系统,...
管式电炉的炉管是其重要的关键的部件,也是生产试验过程中的反应场所,工作区域。并且炉管与气体,压力及操作方法都有直接关系。因此管式电炉用过程中一定要注意石英管的使用和维护:1、石英管软化的软化点,持续限值不宜使用过长。2、石英管的耐温度与其纯度有关系,纯度越高,耐温就越高。3、保持炉管内清洁卫生,炉管内不能残留与SiO2反应的物质,烧物料时,为了使炉管的使用寿命更长,不要直接把物料放在炉管上,用舟型坩埚盛着。4、加热时炉管内请务必放陶瓷炉塞,否则炉管两端温度较高,法兰里的O型圈...