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这款管式炉以优质硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构,厦门宇电30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用进口高纯氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,采用高纯刚玉管、两端用不锈钢法兰密封,可选用浮子流量计控制进气流量、该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点;
立式管式气氛炉主要用于玻璃、生物陶瓷、石墨烯、锂电正负极材料、晶体退火、LED发光材料等领域,进行气氛保护下对样品进行热处理、烧结、沉积镀膜、灰分测量等场合。
PECVD系统是一种基于等离子体化学气相沉积技术的薄膜沉积设备,能够对各种材料进行薄膜沉积,包括金属、半导体、绝缘体等。PECVD技术在微电子、光电、平板显示、储能等领域具有重要的应用价值。
真空管式气氛炉集成加热系统、混气系统、真空系统、循环水冷却系统,外形美观大方,结构设计先进合理,真空管式气氛炉采用双层壳体结构和智能化程序控温系统,炉膛采用进口氧化铝多晶体纤维材料,保温节能。
旋转式管式炉专为烧结无机化合物获得较好的一致性而设计,适合航空航天、新能源,LED发光材料等行业,炉体可倾斜30°,炉管可360°旋转。炉子在旋转同时下可通入氮气、氩气、氢气等保护性气体, 也可外接真空泵在真空状态下加热使用。